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            智能化學氣相沉積法制備多類功能/結構薄膜的技術和設備

            時間:2020-08-17 17:15來源:未知 作者:admin 點擊:
            一、項目簡介: 本團隊研制開發了具有自主知識產權的智能噴液霧化-多元共析化學氣相沉積設備及相應的多類功能及結構薄膜制備技術,適用于在一維(1D)、二維(2D)及三維(3D)大尺
            一、項目簡介:
                   本團隊研制開發了具有自主知識產權的“智能噴液霧化-多元共析化學氣相沉積設備”及相應的“多類功能及結構薄膜制備技術”,適用于在一維(1D)、二維(2D)及三維(3D)大尺寸、異形工件或基體上使用化學氣相沉積法制備各種功能/結構薄膜材料,能賦予工件更多的功能及更為優越的性能,擴大工件的應用范圍,能為機械、微電子、光學、汽車、模具、電學及航空航天等領域提供需要的多種新型膜材料,適用范圍廣,安全性能高。
             
            二、目前項目所處階段:
                   本技術已達到工業化使用標準,適用于化學氣相沉積法制備多類功能/結構薄膜,適用范圍廣,市場需求大、安全性能高。特別是研制的700mm*700mm*700mm類大尺寸碳化硅鍍膜設備,已在相關的多家科研院所和高新技術企業成功推廣應用。此類型大尺寸碳化硅鍍膜設備在我國尚無資料報道,本成果打破發達國家的技術壟斷,填補了我國在該領域的技術空白,經濟效益顯著。目前已與多家企業和科研院所有合作,并且生產的產品性能優異,均能夠滿足對方需求。

            三、該項目與現有技術或工藝比較所具有的優勢:
                   CVD薄膜制備技術是80年代后期出現的新技術,日本、德國、美國在該方面技術遙遙領先。目前我國在CVD設備制備技術方面幾乎是一片空白;目前市面上尚沒有公司或企業出售CVD相關設備;我國的科研人員對CVD設備的了解,目前還停留在80年代初期管式爐的層次上。該項目填補了國內在CVD設備技術方面的空白。
                   搭載的“噴液霧化-多元共析液體原料供給系統”解決了以往CVD設備中固體原料蒸發罐供給系統在工業應用中無法長時間提供精確、持續、穩定的原料蒸氣難題。能精準地控制多元化合物原料的各元素化學計量比,特別是能精準控制多元薄膜材料的化學成分,并能長時間提供精確、持續、穩定的原料蒸氣,徹底解決原料浪費現象,是工業化應用必備的條件。
                   搭載的“智能真空度控制系統”,能精準控制本設備腔體內的壓強,并能將腔體真空度維持在100-1000 Pa之間的任意設定值,能保證工業生產時薄膜質量的精準控制。
                   搭載的“智能操控系統”能實現能用電腦精準控制薄膜沉積過程中的每個動作,實現了全自動智能化操作,杜絕了人為操作出現的失誤的情況,解決了樣品可重復性差這一難題。

            四、應用領域:
                   本技術已達到工業化使用標準,適用于化學氣相沉積法制備多類功能及結構薄膜,能為機械、微電子、光學、汽車、模具、電學及航空航天等領域提供需要的各類新型材料。適用范圍廣,安全性能高。

            五、應用前景:
                   本技術適用于在一維(1D)、二維(2D)及三維(3D)工件或基體上制備各種功能、結構薄膜。例如700mm*700mm*700mm大尺寸碳化硅類鍍膜設備在我國尚無資料報道,本成果填補了該領域的技術空白,在市場競爭中具有據巨大優勢,經濟效益顯著。


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